Al/p-Si/Sn schottky yapılarının akım-voltaj karekteristiklerinin incelenmesi
dc.contributor.advisor | Gümüş, Ahmet | |
dc.contributor.author | Uluer, Serhat | |
dc.date.accessioned | 2024-11-04T20:06:13Z | |
dc.date.available | 2024-11-04T20:06:13Z | |
dc.date.issued | 2006 | |
dc.department | Niğde ÖHÜ, Fen Bilimleri Enstitüsü, | |
dc.description | Fen Bilimleri Enstitüsü | |
dc.description.abstract | Bu çalıºmada, yüksek özdirençli [111] doðrultusunda kesilmiº p-tipi Si kristalindenyapı Al/p-Si/Sn Schottky diyot yapı nı akı iletim mekanizması ve karakteristiklan sı n mparametreleri araºtı ldı Schottky diyot yapı ndaki omik kontak, Al-Si (p-tipi)rı . sıðıolan 577 0C'de alaºı yapısisteminin ötektik sıcaklı m lması ile; doðrultucu kontak iseSn metalinin p-tipi Si'a vakumda ı sal buharlaºtı lması yöntemiyle gerçekleºtirildi.sı rırma iºlemleri 10-5 torr basıBuharlaºtı nçta gerçekleºtirildi.Yapı n akıları m-gerilim (I-V) ölçümleri oda sıcaklı nda, karanlı ortamda yaklaºıðı k kolarak 0-4 Volt aralı nda ters ve düz beslemlerde alı ºtı Yapı ait parametrelerinðı nmı r. yabulunmasında akım-voltaj karakteristikleri kullanı . Diyot parametreleri Cheung veldıCheung tarafından verilen yöntemle hesaplandı Ayrı Schottky diyot yapı nı I-V. ca, sı nmıile Schottky çiziminden eÖ p= 0.73 eV, doðru beslem [dV/dlnIkarakteristikleri yardı]-I ve H(I)-I karakteristiklerinden eÖ p= 0.75 eV deðerleri bulundu. Diyot idealiteçarpanın = 1.64 ile diyot seri direnci Rs=6.45 kΩ ve Rs=8.87 kΩ olarak bulundu.Anahtar sözcükler: Schottky diyot, Silisyum, idealite faktörü, metal-yarıiletken kontak,omik kontak, doðrultucu kontak, yüzey durumları oksit, donor, akseptör.,iiiAcroPDF - A Quality PDF Writer and PDF Converter to create PDF files. To remove the line, buy a license. | |
dc.description.abstract | In this study Al/p-Si/Sn Schottky diode made of p-type Si Crystal that was cut in the[111] direction of high resistivity and it is parameters characteristics have beenresearched. The ohmic contact in the Schottky diode was fulfilled by making p-type Al-Si alloy at 577 0C which was the eutectic temperature of P+P structure and the was madewith the contact of Sn metal and p-type Si. Evaporation processes was done under thepressure of 10-5 torr.Current-Voltage (I-V) measurements of the sample at room temperature and darkmedium have been taken for the range of approximately 0-4 Volts of forward andreverse bias. So in order to find the parameters relating to the structure thecharacteristics of current-voltage (I-V) were used. The diode parameters have beencalculated by the use of methods given by N.V. Cheung and S.K. Cheung. In addition,by using the I-V characteristics of the Schottky diode structure, eÖ p= 0.73 eV, wasfound from Schottky drawing, and eÖ p= 0.75 eV from [dV/dlnI ]-I and H(I)-Icharacteristics. To the values found, n=1.64 with diode seri resistance Rs=6.45kΩ andRs=8.87 kΩ were found.Key Words: Schottky diode, silicon, ideality factor, metal-semiconductor contacts,ohmic contact, rectifying contact, surface states, oxide, donor, acceptor.ivAcroPDF - A Quality PDF Writer and PDF Converter to create PDF files. To remove the line, buy a license. | |
dc.identifier.endpage | 84 | |
dc.identifier.startpage | 1 | |
dc.identifier.uri | https://tez.yok.gov.tr/UlusalTezMerkezi/TezGoster?key=-L8ilcwn9ZRRc_YMKxXW1hqTEDuPLljEiwsya25lAEdt4ivgrLMy9QH90xqadNEp | |
dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/11480/8950 | |
dc.identifier.yoktezid | 182617 | |
dc.language.iso | tr | |
dc.publisher | Niğde Üniversitesi | |
dc.relation.publicationcategory | Tez | |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
dc.snmz | KA_2024 | |
dc.subject | Fizik ve Fizik Mühendisliği | |
dc.subject | Physics and Physics Engineering | |
dc.title | Al/p-Si/Sn schottky yapılarının akım-voltaj karekteristiklerinin incelenmesi | |
dc.title.alternative | The investigation of current-voltage characteristics of the Al/p-Si/Sn schottky structures | |
dc.type | Master Thesis |